芯片清洗的重要性
在半導(dǎo)體工業(yè)中,關(guān)于清洗是非常重要的一步,那在半導(dǎo)體行業(yè)中是怎么清洗的?
從沙礫到芯片,“點(diǎn)石成芯”會(huì)主要經(jīng)歷硅片制造、晶圓制造、芯片封裝和芯片測(cè)試幾大流程,清洗則貫穿了芯片制造的全產(chǎn)業(yè)鏈,也是重復(fù)次數(shù)最多的工序,這些工序包括三類(lèi):
1、在硅片制造過(guò)程:清洗拋光后的硅片,保證表面平整度和性能,提高后續(xù)工藝的良品率。
2、在晶圓制造過(guò)程:在光刻、刻蝕、沉積、離子注入、去膠等關(guān)鍵工序前后清洗,減小缺陷率。
3、在芯片封裝過(guò)程:根據(jù)封裝工藝進(jìn)行TSV清洗、UBM/RDL清洗、鍵合清洗等。
硅拋光片的化學(xué)清洗目的就在于去除這種沾污,使得硅片達(dá)到工業(yè)應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)。自1970年美國(guó)RCA實(shí)驗(yàn)室提出的浸泡式RCA化學(xué)清洗工藝得到了廣泛應(yīng)用,1978年RCA實(shí)驗(yàn)室又推出兆聲清洗工藝,近幾年來(lái)以RCA清洗理論為基礎(chǔ)的各種清洗技術(shù)不斷被開(kāi)發(fā)出來(lái)。芯片發(fā)展有多久,清洗技術(shù)就有多久,早在上世紀(jì)50年代半導(dǎo)體制造界就開(kāi)始注重清洗技術(shù),并且它的重要程度會(huì)越來(lái)越高,市場(chǎng)需求也會(huì)越來(lái)越大。
伴隨制程工藝進(jìn)步,光刻和各種工藝數(shù)量激增,清洗步驟數(shù)量也隨之增加。據(jù)相關(guān)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),在80nm~60nm制程中清洗工藝共有約100個(gè)步驟,而到了20nm~10nm 制程中清洗工藝增加到200個(gè)步驟以上。
部分清洗技術(shù)和化學(xué)溶劑還是會(huì)對(duì)電子元件表面造成損傷或與之發(fā)生反應(yīng),廠商需要在產(chǎn)能與清洗技術(shù)之間進(jìn)行平衡,以保證電子元件的質(zhì)量。這些知識(shí)你都知道了嗎?
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