一臺光刻機一天能產多少芯片

光刻機又叫掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。光刻也被稱為光學平版刻法或紫外光刻，是一種在薄膜或基板（也被稱為“晶圓”）上對零件圖形化的精密加工工藝。簡單來說，光刻機就是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1的，也有4:1的。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。

那么一臺光刻機一天能產多少芯片呢?接下來小編就給科普一下關于光刻機產量的相關知識，希望能對您有所幫助！

在光刻機的領域，一項關鍵指標被稱為WPH，即一小時單位產能?，F(xiàn)代先進的DUV光刻機已經能夠達到每小時處理200片以上。然而，光刻機數(shù)量有限，一家半導體工廠通常只有大約10多臺，這些光刻機的性能也不盡相同。舉例來說，一個擁有3萬片產能的28納米工藝工廠可能只有2臺最先進的光刻機，其他光刻機則采用不同的型號。

但是，光刻機的最大WPH只是影響月產能的一部分因素。28納米工藝需要經歷多次光刻步驟，每片晶圓通常需要反復曝光13到15次。因此，產能的瓶頸并不只是光刻機，還包括其他制程設備的性能和數(shù)量。

關于光刻機是否夠本，需要從產業(yè)壽命周期的角度來看。光刻機的前道設備，盡管可能看似利潤有限，但在長期發(fā)展中，這些設備成為了半導體產業(yè)的關鍵環(huán)節(jié)。在中國這樣龐大的國內市場中，一個產業(yè)集群具有巨大的消化能力。因此，前道光刻機的成本可以逐漸被消化，而不是成為制約產業(yè)發(fā)展的因素。

然而，對于前道光刻機制造裝備，特別是高端前道光刻機，中國目前仍然存在研發(fā)和制造上的短板。全球最強大的光刻機制造商ASML的市場份額在全球達到了80%，這反映出了中國在前道光刻機領域的不足。然而，光刻機只是半導體生產線的一部分，而且中國在其他制程設備方面已經有了一定的實力。

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