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淺談濾波器晶圓級封裝中Bump制造的關鍵點與先進封裝清洗

合明科技 ?? 2978 Tags:功率放大器晶圓級封裝先進芯片封裝清洗

射頻前端(RFFE,Radio Frequency Front-End)模組國內外手機終端中廣泛應用。它將功率放大器(PA,Power Amplifier)、開關(Switch)、低噪聲放大器LNA(Low Noise Amplifier)、濾波器(Filter)、無源器件等集成為一個模組,從而提高性能,并減小封裝體積。體聲波濾波器適用于較高的頻段,可細分為BAW、FBAR、XBAR等。在晶圓級封裝工藝中,Bump制造是相當重要的一道工序


當前業(yè)內常見的幾種SAW Filter Wafer Bumping工藝如下:

1通過打線工藝在晶圓的UBM(Under Bump Metal)上植金球。

2通過鋼網印刷工藝在UBM上印刷錫膏,再經過回流焊成球。

3先在晶圓的UBM上印刷助焊劑,將錫球放到UBM上,再經過回流焊完成植球。

本文重點介紹第二種工藝。通過對印刷錫膏方案的剖析發(fā)現,在Bumping工藝中Bump的高度和共面度(同一顆芯片上Bump高度最大值最小值之差,差值越低越好)是最重要的關鍵指標(如圖1.1、圖1.2)。下面從鋼網的工藝和設計、錫膏的特性等方面進行分析。

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圖1.1 球高

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圖1.2 共面度

鋼網印刷

圖片鋼網印刷的目的是使錫膏材料通過特定的圖案孔沉積到正確的位置上。首先,將錫膏放到鋼網上,再用刮刀使其通過鋼網開孔沉積到焊盤上。鋼網與晶圓之間的距離(印刷間隙)、印刷角度、壓力、速度和膏體的流變特性是確保錫膏印刷的關鍵參數。一旦鋼網開孔被膏體填滿,脫模后膏體留在每個焊盤上,沉積在焊盤上的體積取決于鋼網的孔距和孔壁的質量、焊盤的表面特性和膏體的流變性能。

鋼網的加工工藝與開孔設計

圖片納米涂層鋼網的工藝是:在激光切割的基礎上對鋼網進行清洗,然后在鋼網內壁進行打磨拋光以降低粗糙度,最后涂覆納米涂層。納米涂層使接觸角顯著增加,從而降低鋼網材料的表面能,有利于錫膏脫模。

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圖2.1 無納米涂層

Source: Laser Job

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圖2.2 納米涂層


電鑄鋼網的制作方法是:先在導電基板上用光刻技術制備模板,然后在阻膠膜周圍進行直流電鑄,最后從光刻膠孔上剝離。電鑄鋼網的質量和印刷性能取決于光刻膠的靈敏度、所用光刻工具的類型、導電基材的光學性能和電鑄工藝。

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圖3 電鑄鋼網孔壁

Source: Bon Mark

小結,納米涂層鋼網的印刷表現略遜于電鑄鋼網,其涂層在批量生產一段時間后可能會脫落,但是納米涂層鋼網的價格遠低于電鑄鋼網。

電鑄鋼網的側壁非常光滑,其印刷表現最好,是超細間距應用的最佳選擇,但電鑄鋼網的價格相當昂貴。

鋼網的選擇取決于客戶對產品特性和成本的綜合考量。

開孔面積比

由于CTE不匹配會影響封裝的可靠性,符合高度要求的Bump在這方面會起到積極的作用。這就要求鋼網印刷過程可靠地沉積穩(wěn)定的錫膏量,以產生堅固的互連。錫膏從鋼網孔的釋放是由錫膏在鋼網孔側壁和晶圓焊盤之間的相互作用決定的。

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圖4 鋼網開孔規(guī)則

晶圓級封裝 先進芯片封裝清洗:

合明科技研發(fā)的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。

水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。

污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。

這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發(fā)接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。

推薦使用合明科技水基清洗劑產品。


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