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先進封裝之扇出晶圓級封裝(FOWLP)、異質整合與先進封裝清洗劑介紹

發(fā)布日期:2023-07-19 發(fā)布者:合明科技 瀏覽次數(shù):7019

先進封裝之扇出晶圓級封裝(FOWLP)、異質整合與先進封裝清洗劑介紹

扇出晶圓級封裝(FOWLP)

FOWLP技術是針對晶圓級封裝(WLP)的改進,可以為硅芯片提供更多外部連接。它將芯片嵌入環(huán)氧樹脂成型材料中,然后在晶圓表面建構高密度重分布層(RDL)并施加焊錫球,形成重構晶圓(reconstituted wafer)。

它通常先將經過處理的晶圓切成單顆裸晶,然后將裸晶分散放置在載體結構(carrier structure)上,并填充間隙以形成重構晶圓。FOWLP在封裝和應用電路板之間提供了大量連接,而且由于基板比裸晶要大,裸晶的間距實際上更寬松。

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▲FOWLP封裝示例

異質整合
將分開制造的不同組件整合到更高級別的組件中,可以增強功能并改進工作特性,因此半導體組件制造商能夠將采用不同工藝流程的功能組件組合到一個組件中。
異質整合類似于系統(tǒng)級封裝(SiP),但它并不是將多顆裸晶整合在單個基板上,而是將多個IP以Chiplet的形式整合在單個基板上。異質整合的基本思想是將多個具有不同功能的組件組合在同一個封裝中。

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▲異質整合中的一些技術建構區(qū)塊

先進芯片封裝清洗:

合明科技研發(fā)的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。

水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。

污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。

這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發(fā)接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。

推薦使用合明科技水基清洗劑產品。


Tips:

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以上為本公司一些經驗的累積,因工藝問題內容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產品的創(chuàng)新,做到與時俱進,熟悉各種生產復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設備、材料的清洗解決方案支持。

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